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西藏大理石檢驗(yàn)平臺(tái)的規(guī)格尺寸多種多樣,常用的有300x300x50mm、西藏當(dāng)?shù)?00x400mm、西藏當(dāng)?shù)?00x300x70mm、西藏當(dāng)?shù)?00x400x70mm、西藏當(dāng)?shù)?00x600x100mm、西藏當(dāng)?shù)?00x500x100mm、西藏當(dāng)?shù)?00x600x100mm、西藏當(dāng)?shù)?00x800x100mm、西藏當(dāng)?shù)?00x800x130mm、西藏當(dāng)?shù)?00x900mm、西藏當(dāng)?shù)?000x750mm、西藏當(dāng)?shù)?000x1000mm、西藏當(dāng)?shù)?000x1500mm、西藏當(dāng)?shù)?000x2000mm、西藏當(dāng)?shù)? 1200x800mm、西藏當(dāng)?shù)?500x2000mm等。此外,根據(jù)需求還可以定制特殊規(guī)格的平臺(tái)。

眉山大理石光學(xué)平臺(tái)精度一級(jí)



西藏大理石檢驗(yàn)平臺(tái)加工工序-準(zhǔn)備工作:在開始研磨之前,需要確保大理石平臺(tái)表面干凈、西藏同城無(wú)油污、西藏同城無(wú)雜質(zhì)。同時(shí),準(zhǔn)備好所需的研磨工具、西藏同城磨料和研磨液。 粗磨:使用較粗的研磨工具(如金剛石磨盤、西藏同城砂輪等)和磨料(如金剛石砂紙、西藏同城碳化硼砂輪等)對(duì)大理石平臺(tái)表面進(jìn)行初步研磨。粗磨的目的是去除表面的凸起和不平整部分,使表面變得相對(duì)平整。 半精磨:在粗磨的基礎(chǔ)上,使用較細(xì)的研磨工具和磨料進(jìn)行半精磨。半精磨的目的是進(jìn)一步去除表面的粗糙部分,提高表面的平滑度。 精磨:使用更細(xì)的研磨工具和磨料進(jìn)行精磨。精磨的目的是使大理石平臺(tái)表面達(dá)到更高的平滑度和精度。在精磨過(guò)程中,需要注意研磨工具的均勻施力和平穩(wěn)移動(dòng),以避免出現(xiàn)劃痕或凹凸不平的情況。 拋光:在精磨完成后,使用拋光工具和拋光液對(duì)大理石平臺(tái)表面進(jìn)行拋光處理。拋光的目的是去除表面的微小瑕疵和光澤度不足的問(wèn)題,使表面呈現(xiàn)出鏡面般的光澤。




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我們堅(jiān)持“和諧、謙學(xué)、務(wù)實(shí)、創(chuàng)新”的企業(yè)使命,改變一切不適應(yīng)市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì)的經(jīng)營(yíng)觀念與行為習(xí)慣,進(jìn)一步激發(fā)團(tuán)隊(duì)的激情與組織的活力,充分發(fā)揮我們的創(chuàng)新能力,不斷超越自我,創(chuàng)造一種蓬勃發(fā)展的動(dòng)力之源,以快速自身的整體競(jìng)爭(zhēng)力。
我們相信:在“合作發(fā)展、共同提高”的基礎(chǔ)上,我們?nèi)w員工將以飽滿的工作熱情、創(chuàng)新的工作思維和務(wù)實(shí)的工作做法,團(tuán)結(jié)一致,奮勇拼搏一定能夠在經(jīng)濟(jì)舞臺(tái)上達(dá)到既定目標(biāo),并與所有的合作伙伴共同發(fā)展。



西藏大理石檢驗(yàn)平臺(tái)-在大理石測(cè)量平臺(tái)上進(jìn)行測(cè)量,可以充分利用其作為基準(zhǔn)平面的特點(diǎn),從任何位置測(cè)量出被測(cè)件各個(gè)不同點(diǎn)、西藏線、西藏面對(duì)同一平面的高度值。 花崗石精密工作臺(tái)是一種用于精密加工和測(cè)量的工作臺(tái),通常由花崗石材料制成。花崗石是一種硬度高、西藏耐磨、西藏耐酸堿、西藏不易變形的天然石材,因此被廣泛應(yīng)用于精密機(jī)械、西藏光學(xué)儀器、西藏電子等領(lǐng)域。 花崗石精密工作臺(tái)具有高精度、西藏高穩(wěn)定性、西藏高承載能力等特點(diǎn),能夠滿足各種精密加工和測(cè)量的需求。其表面經(jīng)過(guò)精密加工,平整度和平行度都非常高,可以提供穩(wěn)定的支撐和定位基準(zhǔn)。




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