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誠信回收庫存電子

ASML是先的半導體設備廠商，隨著工藝技術不斷縮，三星在16日宣布5nm極紫外光（EUV）制程開發成功，并傳今年將量產6nm，臺積電傍晚也宣布推出6nm(N6)制程技術，并預計2020年一季度進入試產。DRAM也即將進入1znm，三星已成功研發出1znm DRAM，并預計于2019 年下半年開始大量生產，DRAM進入1znm節點將需要更精密的EUV設備延續摩爾定律，這離不開對ASML EUV設備的需求。

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