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萊蕪方矩管的詳細介紹

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膜內部電子環境考慮：
  陽離子空位：P型半導體如FeO，Fe3O4膜
  陰離子空位：N型半導體如Fe2O3膜
  過程解釋：氧化過程的主要是氧離子和鐵離子(合金元素形成的離子)在氧化層中的擴散，同時也是電子傳導過程。這個氧化腐蝕的過程，本質上也是一個電化學腐蝕過程。這也是不銹鋼和耐熱鋼在理論上的共同基礎。
  實際工件表面的氧化層，還有以下性質：
  ①通過對氧化物體積和被氧化物體積的比較，判斷氧化膜是否覆蓋工件表面;
  例：V(FeO)：V(Fe)=1.77;V(Fe3O4)：V(Fe)=2.09
  V(Fe2O3)：V(Fe)=2.14
  判定：大于1說明可以覆蓋表面，考慮體積，比值，層與層的應力，可以推斷出容易起皮。
  ②生成的氧化物結晶結構和致密性;
  ③和基體金屬的結合。

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