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工業(yè)廢氣處理設備。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調整。 在用多孔性固體物質處理流體混合物時，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上，此現(xiàn)象稱為吸附。吸附處理廢氣時，吸附的對象是氣態(tài)污染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質，多孔固體物質稱為吸附劑。固體表面吸附了吸附質后，一部被吸附的吸附質可從吸附劑表面脫離，此現(xiàn)附。 工業(yè)廢氣處理設備 特點：① 不需要高成本的化學藥劑，運行穩(wěn)定，耐腐蝕，耐負荷沖擊能力大。② 針對特定有害氣體成份馴化適當?shù)奈⑸铮岣邌挝蝗莘e的負荷率。③ 填料采用有機無機混合填料，比表面積大，孔隙率高，并可為微生物提供營養(yǎng)，可支撐大量不同種群微生物群。④ 填料活性介質的損失小、可減少能耗，降低運行費用。采用強化自然生物降解污染物，無二次污染物產(chǎn)生。VOC去除率高，對H2S的去除率可達99%。 PLC控制系統(tǒng)自動運行，無需人員管理。




廢氣經(jīng)阻火器過濾后，通過主進閥、旁通閥的同步反向切換調節(jié)進入熱交換器，熱交換器的熱氣升高一定溫度后進入預熱室、經(jīng)過預熱室的加熱使廢氣升溫到催化起燃溫度（250度）然后進入催化反應床，在催化劑的活性作用下，有機廢氣進行氧化反應生成無害的水和二氧化碳，并放出一定的熱量。反應后的高溫氣體再次進入熱交換器，經(jīng)換熱后，后以較低的溫度經(jīng)引風機排入大氣。催化燃燒是借助催化劑在低溫下（200－400度）實現(xiàn)對有機物的完全氧化，因此，操作簡單、、凈化效率高，在有機廢氣特別是回收價值大的有機廢氣凈化等領域應用廣泛。 不同的排放場合和不同的廢氣，有不同的催化燃燒廢氣處理工藝流程。環(huán)保 催化燃燒性能特點1、用優(yōu)質金屬鉑、鈀鍍在蜂窩陶瓷載體上作為催化劑、凈化效率高達97－99%，設備壽命長、且可再生、氣體流暢阻力??；2、設施完備：阻火除塵器、泄壓孔、超溫報警等保護設施全；3、預熱15－30分鐘全功率加熱。工作時只消耗見機功率即可，當廢氣濃度較低時，自動間歇補償加熱；4、余熱可以返回烘道用來烘干工作，降低原烘道中消耗功率；也可供工廠其它方面熱能回用 催化燃燒處理注意事項:1、廢氣成分中，不能含有下列物質;有高粘性的油脂類。如磷、鉍、砷、銻、汞、鉛、錫；高濃度的粉塵；2、設備選型時，注明廢氣的成分、濃度及出口溫度；3、設備安裝場所無腐蝕性氣體，并有良好的防雨措施；4、設備所需電源為：三相交流380V頻率50Hz; 催化燃燒適用范圍:1、用于有機溶劑的凈化處理如：苯類、醇類、酯類、酚類、醚類、烷類等混合性有機廢氣；2、適用于漆包線、機械、電機、化工、儀表、汽車、發(fā)動機、塑料、電器等行業(yè)的有機廢氣凈化；3、適用于各種烘道、印刷油墨、電機絕緣處理等烘干流水線等。




OC廢氣處理設備從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。




催化燃燒廢氣處理設備。解吸后的吸收劑經(jīng)過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調整。 催化燃燒廢氣處理設備 根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度，等離子體通常可以分為高溫等離子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態(tài)，它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態(tài)，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。
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