淬易引起工件表面變質。由于表面活性大，在短暫高溫膜作下即可發生顯著薄層滲碳，此外，碳黑和在表面粘附對簡化熱處理流程很不利。真空淬火技術發展主要在于研制性能優良、工位單一氣冷淬火爐。前述雙室式爐亦可于氣淬(在前室噴氣冷卻)，但雙工位式操作使大批量裝爐生產發生困難，也易在高溫移動中引起工件變形或改變工件方位增加淬火變形。 　　單一工位氣冷淬火爐是在加熱保溫完成后在加熱室內噴氣冷卻。氣冷冷速不如冷快，也低于傳統淬火法中熔鹽等溫、分級淬火。因而，不斷提高噴冷室壓力，增大流量，以及采摩爾質量比氮和氬小惰性氣體氦和氫，是當今真空淬火技術發展主流。 　　70年后期將氮氣噴冷壓力從(1~2)%26times;10Pa提高到(5~6)%26times;10Pa，使冷卻能力接近于常壓下冷。80年中期現超高壓氣淬，(10~20)%26times;10Pa氦，冷卻能力等于或略高于淬，已進入工業實。90年初采40%26times;10Pa氫氣，接近水淬冷卻能力，尚處于起步階段。 　　工業發達已進展到以高壓(5~6)%26times;10。Pa氣淬為主體，而中國產氣淬一些金屬蒸氣壓(理論值)與溫度關系則尚處于一般加壓氣淬(2%26times;10Pa)階段。結果真空滲碳為真空滲碳一淬火工藝曲線。在真空中加熱到滲碳溫度并保溫使表面凈化、活化之后，通入稀薄滲碳富化氣(見控制氣氛熱處理)，在大約1330Pa(10T0rr)負壓下進行滲入，然后停氣(降壓)進行擴散。

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