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其阻垢機理主要有以下兩種:2.1.1 在常溫作用下，有效地增加了水的溶解能力，減少產生的結晶現象，并通過把離子和膠體顆粒等穩定在水溶液中，達到水質穩定的效果。2.1.2 在高溫作用下對水中晶核進行處理，加速水中的各種積垢聚集，并使其沉于水底。對于已經形成的水垢來說，通過水中含有的大量電子，對水垢分子產生破壞作用，使其從設備器壁上脫落，直至溶解、消失。2.2 化學原理電子水處理器陰陽兩極之間的低壓直流電場，會引發相對應的電極反應。陰極附近的pH值由于反應中所產生的OH-呈現上升趨勢，碳酸根離子會相應增加，而鈣鎂等離子在靜電引力的作用下，聚集在陰極區附近并與碳酸根離子和氫氧根離子發生相應的化學反應，從而生成沉淀物，對抑制水垢的形成，起到了較好的效果。在化學反應作用下析出的水垢能被高速水流帶走或者是通過相應的去除設施進行去除。
